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真空鍍膜機的特點和使用注意事項

點擊次數(shù):901 更新時間:2023-06-02
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子槍加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
 
蒸發(fā)鍍膜和磁探濺射鍍膜的特點如下:
一、對于蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。
(1)厚度均勻性主要取決于:
A.基片材料與靶材的晶格匹配程度;
B.基片表面溫度;
C.蒸發(fā)功率、速率;
D.真空度;
E.鍍膜時間、厚度大小。
(2)組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
(3)晶向均勻性:
1.晶格匹配度。
2.基片溫度。
3.蒸發(fā)速率。
二、濺射類鍍膜可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,并且最終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,最終形成薄膜。
 
真空鍍膜機鍍膜的時候必須要注意以下幾點才行。
(1)真空鍍膜設(shè)備使用一段時間后,必須要對設(shè)備進行清潔維護; 
(2)規(guī)范操作人員及操作要求,包括穿戴專業(yè)的服裝、手套、腳套等; 
(3)嚴格處理襯底材料,做到清潔干凈,合乎工藝要求; 
(4)源材料符合必要的純度要求; 
(5)保證設(shè)施設(shè)備及操作環(huán)境清潔。如材料、樣品放置地環(huán)境要求,環(huán)境溫度濕度要求等; 
(6)降低真空鍍膜設(shè)備室內(nèi)空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。


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