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Leica EM ACE200真空鍍膜儀的技術(shù)參數(shù)
點(diǎn)擊次數(shù)：849 更新時間：2022-05-24
真空鍍膜儀主要用來在非導(dǎo)電材料表面蒸發(fā)或者濺射沉積納米導(dǎo)電薄膜，用來提高樣品的表面導(dǎo)電性能，同時由于厚度僅為幾個納米，可以很好保持樣品原始的表面形貌。
Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀，可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能，或者同時具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求，也可用于X-射線能譜及波譜分析，或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動電腦控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等全過程，一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制，簡單方便。
主要技術(shù)參數(shù)：
· 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電（用于網(wǎng)格表面親水化）
· 設(shè)計脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可精確控制碳膜厚度
· 可選石英膜厚檢測器，精確控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm
· 全自動程序控制，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程
· 觸摸屏控制，簡單方便
· 真空度7×10-3mbar
· 濺射電流：0-150mA可調(diào)
· 方形樣品倉設(shè)計，樣品倉尺寸：140mm（寬）×145mm（深）×150mm（高）
· 工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm
